Page 169 - 捷運工程叢書 精進版 － 8 捷運隧道工程實務
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第四章 捷運隧道主力技術
第六節 連絡通道
捷運工程隧道內設置連絡通道之目的主要係於營運階段作為旅客遇緊急狀況時之疏散路
線，亦可作為機電線路之迴路，以下即分別說明其設立之準則及施工過程。
4.6.1 設置準則
依臺北捷運之規劃手冊 4.2.4，對鑽掘隧道間之橫向通道設立規定有以下三點：
一、 在鑽掘隧道間之橫向通道，其間隔大約為 300m，橫向通道間隔可在經捷運工程局核准
後依工地狀況調整。
二、 橫向通道地板高程必須配合走道之高程。有些少見的例外，當橫向通道遠離走道，則其
地板高程必須配合軌頂高程。橫向通道之最小淨空為 3,000mm 寬及 3,000mm 高，抽水
站可以設在橫向通道結構內。
三、 橫向通道門孔之最小結構尺寸為 1,400mm 寬及 2,200mm 高，橫向通道之兩端均需設門，
門之開啟方向係向橫向通道開啟，門最好設在橫向通道之中間。假如門不設在中間，則
橫向通道兩端之門必須在同一側。
4.6.2 挖掘前之準備作業
連絡通道開挖前主隧道已完成，為考量主隧道主結構體及地面與施工人員之安全，故連
絡通道進行開挖前，必需先進行地質改良予以止水並提高開挖周邊土壤之強度，然後在兩主
隧道內完成內撐作業後，方能進行後續作業。
一、地盤改良
一般連絡通道之地盤改良，以自地面採高壓噴射灌漿較為容易掌握改良狀況，但亦有因
受限於施工狀況或因有建物而無法自地面進行改良者，則只有待主隧道完成後再自主隧道內
進行地盤改良。
一般地面灌漿方式為高壓噴射灌漿搭配低壓之二重管複合灌漿，高壓噴射灌漿工法係
利用裝置於鑽桿前端之特殊噴射嘴，迴轉噴射高壓之水泥漿及氣流以沖碎周圍土壤使水泥
漿與週遭土壤混合，於灌漿同時徐徐提高鑽桿至所需處理深度，因鑽桿係迴轉噴射且逐步
上升故灌漿完成後因漿液固結而形成圓柱體，若改良區域布設孔位所形成之圓柱體皆能相
互重疊則該區域之承載力與水密性將大為提高，但為確保柱體間水密性，一般在完成高壓
噴射灌漿後再進行低壓灌漿，其原理係利用漿液滲透填充高壓灌漿所形成之圓柱體間未完
全密合之孔隙。
至於在主隧道內進行灌漿應考量隧道環片所能承受之壓力，故一般都以低壓灌漿且灌漿
前必須先在隧道內加環型支撐防止灌漿時隧道變形，由於在無法破壞環片之前提下，隧道內
所能進行之灌漿孔位有限，故灌漿之成效並不如地面灌漿佳。
無論自地面或隧道內灌漿，只有確實成功的地質改良，才能確保後續挖掘的順利，因此
此部分之作業必須詳加考量與確認，否則將引起難以收拾的後果。
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